K&F Concept Nano-X MRC UV filtras, skirtas Fujifilm X100 serijai (juodas rėmelis)

Fotografuojant su „Fujifilm X100“ serija, objektyvo apsauga neturi riboti vaizdo kokybės. „K&F Concept Nano-X MRC UV“ filtras – tai ne tik apsauga, bet ir vientisas jūsų fotoaparato dizaino elementas, pakeičiantis originalų priekinį žiedą.

Privalumai profesionalui

Daugiasluoksnė danga (MRC) užtikrina atsparumą įbrėžimams, vandeniui, riebalams ir atspindžiams. Didesnis nei 99,6 % šviesos pralaidumas garantuoja minimalų poveikį vaizdo ryškumui, o UV spinduliuotės sugertis sumažina miglą lauko kadruose. Itin plonas aviacinio aliuminio rėmelis išlaiko kompaktišką fotoaparato profilį.

Kam tinka

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: UV filtras
• Danga: Nano-X daugiasluoksnė (MRC)
• Stiklas: aukštos raiškos optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio dizainas: itin plonas
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Atsparumas vandeniui: taip (hidrofobinis)
• Atsparumas riebalams: taip (oleofobinis)
• Atsparumas įbrėžimams: taip
• Antirefleksinis: taip
• UV sugertis: taip
• Spalva: juoda (rėmelis)

Kaip naudoti

Filtrą montuokite vietoje originalaus priekinio žiedo – jis užsukamas tiesiai ant objektyvo sriegio. Dėl tikslaus pritaikymo nėra vinjetavimo, o montavimas paprastas.

Patarimas: šį filtrą rekomenduojama naudoti kaip nuolatinę objektyvo apsaugą – jis neblogina vaizdo kokybės ir apsaugo nuo dulkių, drėgmės bei mechaninių pažeidimų.